高沃12.11“如何高质量撰写技术交底书及专利布局”交流会 圆满召开！
如何高质量撰写技术交底书？如何进行专利布局？这似乎是每个专利申请人不可绕开的两个焦点话题。
企业申请布局专利已经成为大势所趋。优质合理的专利布局有利于企业总揽全局、预测竞争情报，对于企业技术创新、抵御市场竞争、布局发展策略等具有重要的指导意义。
12月11日，一场“如何高质量撰写技术交底书及专利布局”交流会在高沃北京总部会议室如期召开，来自各地的约50位客户如约而至，共同参加了这一主题交流会。
随着我国自主创新能力的提高，我国的企业也越来越认识到做好知识产权保护工作的重要性，企业寻求创新技术专利保护，扩展海外市场的意愿日益迫切。在此背景下，做好专利布局变得愈发重要。
技术交底资料作为专利申请人（发明人）与专利代理人沟通的资料，是给专利代理人交代要申请专利的技术方案的资料，这也就要求专利代理人具有 “高撰写水准”，遵照“专业、严谨”的工作流程。
高沃知识产权讲师从“专利申请、撰写、布局、保护”几个方面一一进行了深入浅出的讲解，写专利很容易，但把专利写的有水准很难，通过介绍实际专利审查过程中遇到的案例，告诉大家在专利文件撰写过程中要注意哪些问题，把握哪些技术关键信息，在布局中要遵照几个原则，以确保更完善、严密、有效地保护创新技术。
随着世界技术竞争的日益激烈，各国企业纷纷开展专利战略研究，专利不仅已经成为衡量企业实力的标准，也成为了捍卫自身的必备武器。企业专利布局已经成为大势所趋。专利申请及全面布局有利于企业总揽全局、预测竞争情报，对于企业技术创新、抵御市场竞争、布局发展策略等具有重要的指导意义。
本期交流会圆满召开，现场高沃专家讲师一一解答了客户疑问，各位参会的企业代表、知产管理人员对老师的讲解非常满意，会后反馈受益颇丰。另外下午还有更深入圆桌论坛，与高沃专家面对面探讨知识产权保护问题，为大家解决企业知识产权布局难题，定制个性化知识产权保护方案。
高沃一直践行“用知识产权为客户实现最大价值”的价值观，为客户提供从申请到诉讼一站式知识产权服务。如果您在专利申请、布局中遇到任何问题，欢迎联系我们为您制定解决方案。
