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高沃动态

高沃远赴美国参加国际商标协会第146届年会

2024年5月18-22日,全球知识产权行业年度盛会——国际商标协会(INTA)第146届年会在美国亚特兰大隆重召开。高沃作为中国知识产权领域实力代表再度受邀参会,并设置展台,与世界各地的合作伙伴商洽合作,共同探讨全球知识产权保护热点议题。

高沃国际事业部董总和资深专家代表参会

作为国际商标协会会员单位,高沃已连续多年组建专家代表团参与INTA年会。本届年会细分为“知识产权创新(The IP and Innovation Track)”和“商业专题(The Business Track)”,高沃将同全球顶尖专家、业界领袖分享经验,融汇创新,探讨知识产权行业的最新趋势和挑战。

高沃专家代表团在展台前合影

高沃专家代表与外所代表洽谈交流

高沃代表团与外所代表商洽合作

高沃知识产权始终致力于为全球客户提供卓越的服务体验。目前,高沃已与全球180多个国家或地区的上千家律师事务所达成合作伙伴关系,并在美国达拉斯和日本东京设立了海外办事处,形成了覆盖全球的知识产权服务网络。

高沃代表同外所合作伙伴在高沃展台前合影

高沃代表同外所伙伴在高沃展台前合影

未来,高沃将不忘初心,继续秉承“全心全意为客户创造价值”的宗旨,持续向国际市场发力,与全球知识产权合作伙伴们密切合作,携手推动知识产权事业的持续繁荣与进步。


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