为答谢广大客户的支持与信任，2017年10月31日，高沃知识产权学院在北京理工大学召开了一场关于“站在全流程角度谈从技术交底书到权利要求书的撰写”交流会。
来自各地的企业代表、科研机构代表、知识产权人士等170余人汇聚于此，共同交流探讨了专利挖掘与专利申请文件撰写方面的相关知识和问题。
会议第一部分，由高沃资深专利代理人刘老师为各位参会人员分析了企业在日益激烈的竞争环境下进行专利申请的重要性、高质量的申请文件对于申请人权益保护的重要作用，并详细介绍了高沃多年的专利代理经验和行业优势。
会议第二部分，由前国家知识产权局董老师着重为大家讲解了专利申请技术内容的理解和深层次挖掘、布局；专利文件在申请、审查、无效、诉讼等各阶段的撰写技巧及可能遇到的相关问题和难点。同时，介绍了实际专利审查过程中遇到的案例，通过理论与实践相结合，深入浅出的分析，便于大家理解消化。
现场大家认真笔记，相互交流，踊跃提问，参会代表反馈通过老师的细致讲解，学习了很多干货，对“哪些创意想法需要进行专利保护、哪些专利在研发和申请撰写过程中需要规避”等专利知识有了进一步的了解，有效提高了专利保护意识。
参会代表现场提问
中场休息时间参会代表与主讲老师交流问题
中场休息时间参会代表与我司代理人交流问题
知识经济时代，专利作为一个企业乃至整个国家提高核心竞争力的战略资源，凸显出前所未有的重要地位。而专利申请文件是确定专利权技术保护范围的唯一法律文件，高质量的申请文件对于申请人恰当保护其权利起着至关重要的作用。
“高撰写水准”的专利代理人和“专业、严谨”的工作流程，是客户专有技术能得到有效保护的前提。高沃拥有一支覆盖全领域的专业代理人队伍，同时，高沃专利代理人针对客户的技术，遵守严格的工作流程，确保更完善、严密、有效地保护客户的专利权益。
