为回报广大客户的信任，高沃知识产权开启“知识产权感恩之旅”第二站，高沃知识产权于今日（5月12日）在北京总部组织召开了关于“如何有效申报专利”小型交流会。
来自各地的企业代表和科研机构代表60余人汇聚至此，进行了一场专业、深入的专利交流饕餮盛宴。
来自全国各地的企业和科研院所代表
本次交流会由高沃资深专利代理人主讲，通过实际案例，理论与实践相结合，从申请专利必要性、中国专利基础知识和如何撰写技术交底书三个方面详细介绍了在专利申请和文件撰写过程中的相关问题，为大家进行了深入浅出的分析，并一一解答了客户疑问。客户认真笔记、踊跃提问、相互交流，对专利申请知识有了进一步了解，有效提高了专利保护意识。
中场休息客户踊跃提问，老师耐心解答
高沃希望通过组织此次专利交流会，鼓励更多人重视专利，提早进行专利申请，保障专利权益。知识经济时代，专利凸显出前所未有的重要地位，越来越成为企业乃至整个国家提高核心竞争力的战略资源，企业提早申请专利有助于更好地保障专利权益，获取更有利的市场竞争和战略资源。
“高撰写水准”的专利代理人和“专业、严谨”的工作流程，是客户专有技术能得到有效保护的前提。高沃拥有一支集理论和实践经验于一身的专业代理人队伍。覆盖电子、通讯、计算机、物理、机械、化学、生物、医药等技术领域，工作语言除中文外，还有英文、法文、德文、日文；同时，高沃专利代理人针对客户的技术，遵守严格的工作流程，确保更完善、严密、有效地保护客户的专利权益。
“因为专注、才能专业”，高沃知识产权一直致力于知识产权行业，提供商标、专利、版权等，从申请注册到维权诉讼一站式服务。高沃知识产权感恩之旅北京站圆满结束，我们接下来会继续出发，您希望了解知识产权相关的哪些问题？希望接受哪些培训？欢迎留言告诉我们，我们将会以更优质、高效、专业的服务水平感恩回馈广大客户。
